電子、光學、清洗

Kefrier 400電子氟化液、電子清洗劑、溶媒 

Kefrier 400電子氟化液的主要成分為氫氟醚(HFE),是新一代對環境影響較低的清洗劑、溶媒解決方案。尤其是其臭氧消耗潛能值(ODP)為零,即對臭氧無破壞作用,其全球暖化趨勢係數(GWP)為580,與HFCPFC相比大幅降低,因此極大減輕了對環境的負擔。

Kefrier 400電子氟化液具有優秀的熱穩定性和化學穩定性,且擁有適度的溶解性,無閃點,應用安全,這些特點使其應用非常廣泛。

Kefrier 400可以替代HFC,PFC、杜邦公司Vertrel、3M公司Novec、旭硝子公司Asahiklin AE 3000溶劑產品


主要特點

低表麵張力、低粘度、高密度、滲透性良好、優秀的材料兼容性、對大部分樹脂、金屬材料無影響,可以蒸餾再生、低毒性,不燃性,無腐蝕性,應用安全度高


應用領域

精密電氣、電子清洗液:金屬、合金、複合材料、塑料等材質的精密電氣、電子元器件的清洗;精密清洗電子元器件的顆粒雜質

溶劑、稀釋劑:氟油、氟樹脂、氟塗層劑、矽油等

幹燥劑:幹燥、去除水分、不留水痕,去除乙醇等碳氫清洗劑


用作精密清洗劑:

Kefrier400的低表麵張力、低粘度、良好的滲透性、適中的溶解性使其與超聲波結合使用可以發揮更佳的清洗效果。適用於單一溶劑清洗、與碳氫清洗劑共溶劑清洗、水分去除、幹燥多種方式。


純溶劑清洗的用途舉例:CCD、CMOS傳感器等電子設備的除塵、清除表麵顆粒;CCD、CMOS模塊中IR玻璃、鏡筒部位的清洗、幹燥;半導體生產裝置零件、腔體的清洗;輕質與中質油汙的清洗;氟油、潤滑油的清洗;顆粒的擦除清洗;印刷零件壓膜後的清洗等,純溶劑清洗的示意如下。


與碳氫清洗劑共溶劑清洗方式應用舉例:液晶模塊、麵板的清洗;硬盤的懸架、托杆的脫脂清洗與幹燥;精密加工零件的矽油清洗與幹燥;引擎墊圈按壓後清洗;氣缸真空管的樹脂清洗;航空機零件的切削油去除清洗等


水分去除、幹燥方式用途舉例:去除、幹燥相機等鏡片的水分;去除、幹燥CCD、CMOS傳感器封裝的水分;去除、幹燥硬盤精密零件的水分



產品數據表:

特性名稱

指標

化學名稱

1,1,2,2-四氟乙基-2,2,2-三氟乙基醚(347pcf)

化學式

C4H3F7O

分子量

200.05

外觀

透明液體

沸點 ℃

56

凝固點(25℃)

-94

比重(25℃)

1.47

表麵張力(25℃,mN/m

16.4

蒸汽壓(25℃)MPa

0.031

比熱(23℃,KJ/(kg.K)

1.26

黏度(25℃)

0.44

蒸發速度(醚100

67

KB

13

蒸發潛熱(25℃)(kJ/kg

163

燃點,℃

臭氧層破壞指數(ODP

0

地球溫暖化指數(GWP

560

*臭氧層破壞係數(ODP(CFC-11=1)

*GWP(CO2=1,累計100)


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